A: PUTATIVE DNA PROTECTION PROTEIN B: PUTATIVE DNA PROTECTION PROTEIN C: PUTATIVE DNA PROTECTION PROTEIN D: PUTATIVE DNA PROTECTION PROTEIN E: PUTATIVE DNA PROTECTION PROTEIN F: PUTATIVE DNA PROTECTION PROTEIN G: PUTATIVE DNA PROTECTION PROTEIN H: PUTATIVE DNA PROTECTION PROTEIN I: PUTATIVE DNA PROTECTION PROTEIN J: PUTATIVE DNA PROTECTION PROTEIN K: PUTATIVE DNA PROTECTION PROTEIN L: PUTATIVE DNA PROTECTION PROTEIN ヘテロ分子
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9795 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.78→153 Å / Num. obs: 217269 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 6.7 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 15.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.78→153.12 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.973 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.96 / SU B: 2.346 / SU ML: 0.073 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.102 / ESU R Free: 0.102 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19428
11248
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.15913
-
-
-
obs
0.16088
217269
99.97 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK