プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.89999 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.1→45.4 Å / Num. obs: 89887 / % possible obs: 99 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 6 % / Biso Wilson estimate: 13.41 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.172 / Net I/σ(I): 4.35
反射 シェル
解像度: 1.1→1.13 Å / Rmerge(I) obs: 1.228 / Mean I/σ(I) obs: 1.33 / % possible all: 98.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
REFMAC
5.8.0155
精密化
XSCALE
データスケーリング
PDB_EXTRACT
3.22
データ抽出
XDS
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: INHOUSE MODEL 解像度: 1.1→45.4 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.978 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.966 / SU B: 1.241 / SU ML: 0.025 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.032 / ESU R Free: 0.035 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.188
4296
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.149
-
-
-
obs
0.151
80326
93.2 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK