プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
0.918
1
2
2.29
1
反射
解像度: 1.6→50 Å / Num. obs: 37007 / % possible obs: 96.6 % / 冗長度: 10.3 % / Rmerge(I) obs: 0.066 / Net I/σ(I): 46.52
反射 シェル
解像度: 1.6→1.66 Å / 冗長度: 5.7 % / Rmerge(I) obs: 0.19 / Mean I/σ(I) obs: 9.77 / % possible all: 78.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
SHARP
位相決定
REFMAC
5.4.0069
精密化
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.6→28.28 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.942 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.925 / SU B: 1.357 / SU ML: 0.05 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.096 / ESU R Free: 0.095 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22364
1849
5 %
RANDOM
Rwork
0.19364
-
-
-
obs
0.19507
34910
96.15 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK