プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.77→50 Å / Num. obs: 26165 / % possible obs: 98.9 % / 冗長度: 7.4 % / CC1/2: 0.985 / CC star: 0.996 / Rrim(I) all: 0.117 / Χ2: 1.373 / Net I/σ(I): 17.34
反射 シェル
解像度: 1.77→1.83 Å / 冗長度: 7.5 % / Mean I/σ(I) obs: 11.49 / Num. unique obs: 2610 / CC1/2: 0.949 / CC star: 0.987 / Rrim(I) all: 0.443 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0430
精密化
PDB_EXTRACT
データ抽出
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.77→32.53 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.937 / SU B: 2.057 / SU ML: 0.067 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.118 / ESU R Free: 0.11 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20992
1254
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.18395
-
-
-
obs
0.18514
24885
98.68 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK