プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.899→100 Å / Num. obs: 101950 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 7.6 % / Rmerge(I) obs: 0.153 / Χ2: 0.942 / Net I/σ(I): 13.4
反射 シェル
解像度: 1.899→1.93 Å / Rmerge(I) obs: 0.842 / Mean I/σ(I) obs: 2.4 / Num. unique obs: 5084 / Χ2: 0.904
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単一同系置換・異常分散 / 解像度: 1.899→30.682 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.932 / SU B: 3.542 / SU ML: 0.103 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.176 / ESU R Free: 0.147 / 詳細: Hydrogens have been added in their riding positions
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.2173
4923
4.984 %
Rwork
0.1884
93845
-
all
0.19
-
-
obs
-
98768
96.774 %
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT