モノクロメーター: C(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9785 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.06→28.386 Å / Num. obs: 18204 / % possible obs: 97.79 % / 冗長度: 2.2 % / CC1/2: 0.983 / CC star: 0.996 / Rmerge(I) obs: 0.078 / Rpim(I) all: 0.06 / Χ2: 1.526 / Net I/σ(I): 12.2
反射 シェル
解像度: 2.06→2.1 Å / 冗長度: 1.6 % / Rmerge(I) obs: 0.357 / Mean I/σ(I) obs: 1.9 / Num. unique obs: 774 / CC1/2: 0.214 / CC star: 0.593 / Rpim(I) all: 0.327 / Χ2: 0.885 / % possible all: 94
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0425
精密化
XDS
データスケーリング
HKL-2000
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.068→28.386 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.931 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.794 / SU B: 6.045 / SU ML: 0.157 / 交差検証法: FREE R-VALUE / ESU R: 0.274 / ESU R Free: 0.226 詳細: Hydrogens have been used if present in the input file
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.2582
839
4.75 %
Rwork
0.1894
16824
-
all
0.193
-
-
obs
-
17663
87.976 %
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT