プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97856 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→43.84 Å / Num. obs: 47896 / % possible obs: 94.1 % / 冗長度: 30.5 % / CC1/2: 0.999 / Rpim(I) all: 0.045 / Net I/σ(I): 15.7
反射 シェル
解像度: 2.1→2.33 Å / Mean I/σ(I) obs: 1.3 / Num. unique obs: 2397 / CC1/2: 0.184
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8
精密化
xia2
データ削減
STARANISO
データスケーリング
Aimless
データスケーリング
PHASER
2.8.3
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.1→43.84 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.958 / SU B: 18.994 / SU ML: 0.195 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.259 / ESU R Free: 0.199 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: U VALUES : WITH TLS ADDED HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT U VALUES : RESIDUAL ONLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22327
2323
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.19214
-
-
-
obs
0.1937
45573
73.51 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.7 Å / 減衰半径: 0.7 Å / VDWプローブ半径: 1 Å / 溶媒モデル: MASK