プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97918 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.27→48.52 Å / Num. obs: 59824 / % possible obs: 99.97 % / 冗長度: 25.5 % / CC1/2: 0.999 / Rmerge(I) obs: 0.123 / Net I/σ(I): 18.5
反射 シェル
解像度: 2.27→2.329 Å / 冗長度: 27.4 % / Rmerge(I) obs: 1.616 / Mean I/σ(I) obs: 2.4 / Num. unique obs: 4317 / CC1/2: 0.766 / % possible all: 99.91
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
dataprocessing
XDS
データスケーリング
PHASER
位相決定
Coot
モデル構築
Aimless
データ削減
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.27→48.52 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.954 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.931 / SU B: 6.334 / SU ML: 0.153 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.22 / ESU R Free: 0.199 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24593
3088
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.19465
-
-
-
obs
0.19712
59824
99.97 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK