プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.23→50 Å / Num. obs: 192595 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 13.1 % / CC1/2: 0.998 / Net I/σ(I): 12.4
反射 シェル
解像度: 2.23→2.37 Å / 冗長度: 13 % / Num. unique obs: 7034 / CC1/2: 0.457 / % possible all: 98.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0419
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.23→47 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.957 / SU B: 13.954 / SU ML: 0.136 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.174 / ESU R Free: 0.131 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22441
5068
5 %
RANDOM
Rwork
0.1899
-
-
-
obs
0.19166
96088
99.71 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK