プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 3.4→99.59 Å / Num. obs: 72108 / % possible obs: 98.5 % / 冗長度: 6.8 % / CC1/2: 0.967 / Net I/σ(I): 9
反射 シェル
解像度: 3.4→3.47 Å / 冗長度: 7.1 % / Mean I/σ(I) obs: 2.6 / Num. unique obs: 4374 / CC1/2: 0.36 / % possible all: 98.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0430 (refmacat0.4.100)
精密化
autoPX
9.0.001
dataprocessing
iMOSFLM
ccp49.0.001
データ削減
Aimless
ccp49.0.001
データスケーリング
MOLREP
ccp49.0.001
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 3.4→93.215 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.904 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.881 / SU B: 77.444 / SU ML: 0.533 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.532 / 詳細: Hydrogens have been added in their riding positions
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2702
3543
4.92 %
RANDOM
Rwork
0.2327
68469
-
-
all
0.235
-
-
-
obs
-
72012
98.14 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT