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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 9gz5 | ||||||
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タイトル | X-ray structure of Leptospira interrogans Histone deacetylase 11 (HDAC11) in complex with cis-5-dodecenoic acid. | ||||||
![]() | Histone deacetylase | ||||||
![]() | HYDROLASE / Histone deacetylase 11 / Leptospira interrogans / class IV HDAC / zinc binding group | ||||||
機能・相同性 | ![]() | ||||||
生物種 | ![]() | ||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | ||||||
![]() | Novakova, Z. / Barinka, C. / Motlova, L. | ||||||
資金援助 | 1件
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![]() | ![]() タイトル: X-ray structure of Leptospira interrogans Histone deacetylase 11 (HDAC11) in complex with cis-5-dodecenoic acid. 著者: Novakova, Z. / Barinka, C. / Motlova, L. | ||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 82 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 表示 | ![]() | |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
文書・要旨 | ![]() | 675.7 KB | 表示 | ![]() |
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文書・詳細版 | ![]() | 676.6 KB | 表示 | |
XML形式データ | ![]() | 16.6 KB | 表示 | |
CIF形式データ | ![]() | 23.1 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
-関連構造データ
類似構造データ | 類似検索 - 機能・相同性 ![]() |
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 |
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単位格子 |
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要素
-タンパク質 , 1種, 1分子 A
#1: タンパク質 | 分子量: 35072.762 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 組換発現 由来: (組換発現) ![]() 遺伝子: acuC, LA_2923 / 発現宿主: ![]() ![]() |
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-非ポリマー , 6種, 156分子 








#2: 化合物 | ChemComp-ZN / | ||||||||
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#3: 化合物 | #4: 化合物 | ChemComp-K / | #5: 化合物 | #6: 化合物 | ChemComp-A1IRB / | 分子量: 198.302 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 合成 / 式: C12H22O2 / タイプ: SUBJECT OF INVESTIGATION #7: 水 | ChemComp-HOH / | |
-詳細
研究の焦点であるリガンドがあるか | Y |
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Has protein modification | N |
-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.07 Å3/Da / 溶媒含有率: 40.61 % |
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結晶化 | 温度: 293 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 7.4 詳細: 1 protein:2 precipitant 100 mM HEPES pH 7.4, 200 mM MgCl2, 23% PEG3350 |
-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K / Serial crystal experiment: N |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: DECTRIS PILATUS3 S 6M / 検出器: PIXEL / 日付: 2023年5月10日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.9184 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 1.55→48.75 Å / Num. obs: 40698 / % possible obs: 98.7 % / 冗長度: 6.6 % / CC1/2: 0.997 / Rmerge(I) obs: 0.116 / Rpim(I) all: 0.048 / Net I/σ(I): 13 |
反射 シェル | 解像度: 1.55→1.58 Å / Rmerge(I) obs: 1.681 / Mean I/σ(I) obs: 1.1 / Num. unique obs: 1844 / CC1/2: 0.451 / Rpim(I) all: 0.621 / % possible all: 91.2 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]()
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 21.427 Å2
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精密化ステップ | サイクル: 1 / 解像度: 1.55→48.75 Å
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拘束条件 |
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