プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.073 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.67→40 Å / Num. obs: 84472 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 1520 % / R split: 0.077 / Net I/σ(I): 9.1
反射 シェル
解像度: 1.67→1.71 Å / Mean I/σ(I) obs: 1.2 / Num. unique obs: 4223 / R split: 1.006
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0430
精密化
CrystFEL
データスケーリング
CrystFEL
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.67→37.7 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.981 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.974 / SU B: 2.087 / SU ML: 0.064 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.083 / ESU R Free: 0.081 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17016
4333
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.14449
-
-
-
obs
0.14588
80113
99.94 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK