プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.14→50 Å / Num. obs: 87111 / % possible obs: 98.1 % / 冗長度: 3 % / CC1/2: 0.989 / CC star: 0.997 / Rmerge(I) obs: 0.078 / Rpim(I) all: 0.052 / Rrim(I) all: 0.095 / Χ2: 1.048 / Net I/av σ(I): 13.8 / Net I/σ(I): 9.3
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. unique obs
CC1/2
CC star
Rpim(I) all
Rrim(I) all
Χ2
% possible all
1.14-1.16
2.6
0.475
2.1
4208
0.703
0.909
0.355
0.596
0.948
96.1
1.16-1.18
2.6
0.433
4268
0.733
0.92
0.325
0.544
0.984
95.6
1.18-1.2
2.6
0.41
4221
0.738
0.921
0.305
0.514
1.091
97
1.2-1.23
2.6
0.375
4278
0.785
0.938
0.278
0.47
1.087
97
1.23-1.25
2.7
0.357
4271
0.809
0.946
0.258
0.444
1.074
96
1.25-1.28
2.7
0.344
4139
0.789
0.939
0.241
0.422
1.095
94.6
1.28-1.32
2.9
0.282
4337
0.868
0.964
0.194
0.344
1.07
98.1
1.32-1.35
3
0.265
4345
0.881
0.968
0.179
0.321
1.061
97.9
1.35-1.39
3.1
0.233
4297
0.91
0.976
0.153
0.279
1.06
97.3
1.39-1.44
3.1
0.203
4329
0.929
0.981
0.132
0.243
1.074
98
1.44-1.49
3.2
0.181
4391
0.948
0.987
0.117
0.216
1.096
98.9
1.49-1.55
3.1
0.155
4394
0.959
0.99
0.1
0.185
1.09
98.9
1.55-1.62
3.3
0.132
4381
0.967
0.991
0.083
0.156
1.063
99.3
1.62-1.7
3.2
0.117
4424
0.973
0.993
0.075
0.139
1.081
99.3
1.7-1.81
3.1
0.099
4434
0.978
0.995
0.065
0.119
1.074
99.8
1.81-1.95
3.1
0.083
4435
0.984
0.996
0.055
0.1
1.084
99.7
1.95-2.15
3.2
0.069
4423
0.989
0.997
0.045
0.083
0.972
99.6
2.15-2.46
3.2
0.058
4473
0.992
0.998
0.037
0.069
0.952
99.9
2.46-3.09
3.2
0.043
4497
0.996
0.999
0.028
0.052
1.034
99.8
3.09-50
3.2
0.03
4566
0.997
0.999
0.019
0.036
0.991
99.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0425
精密化
SCALEPACK
データスケーリング
HKL-3000
データ削減
O
モデル構築
REFMAC
5.8.0425
位相決定
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 1.14→35.64 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.976 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.976 / SU B: 0.777 / SU ML: 0.016 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.029 / ESU R Free: 0.028 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.14485
1736
2 %
RANDOM
Rwork
0.1284
-
-
-
obs
0.12873
85358
97.96 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK