プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.072 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→39.15 Å / Num. obs: 16156 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 4.51 % / CC star: 0.99 / R split: 0.158 / Net I/σ(I): 5
反射 シェル
解像度: 1.6→1.64 Å / Num. unique obs: 834 / CC star: 0.627 / R split: 1.563
Serial crystallography sample delivery
手法: fixed target
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0425
精密化
XDS
データ削減
CrystFEL
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.6→39.15 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.959 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.92 / SU B: 2.809 / SU ML: 0.088 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.102 / ESU R Free: 0.112 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25057
834
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.1908
-
-
-
obs
0.19378
15322
99.98 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK