プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9184 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.85→49.07 Å / Num. obs: 11213 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 12.7 % / CC1/2: 0.995 / Rmerge(I) obs: 0.153 / Net I/σ(I): 11.1
反射 シェル
解像度: 2.85→2.92 Å / 冗長度: 12.3 % / Rmerge(I) obs: 0.487 / Mean I/σ(I) obs: 4.2 / Num. unique obs: 1580 / CC1/2: 0.939 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.85→49.07 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.932 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.9 / SU B: 15.352 / SU ML: 0.301 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.394 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26062
523
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.20086
-
-
-
obs
0.20402
10111
99.92 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK