プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9184 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.95→41.68 Å / Num. obs: 16483 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 12.5 % / CC1/2: 0.998 / Rmerge(I) obs: 0.095 / Net I/σ(I): 18.1
反射 シェル
解像度: 1.95→2 Å / 冗長度: 13.3 % / Rmerge(I) obs: 0.693 / Mean I/σ(I) obs: 3.6 / Num. unique obs: 1144 / CC1/2: 0.971 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.95→40.74 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.884 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.867 / SU B: 5.299 / SU ML: 0.141 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.24 / ESU R Free: 0.185 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2551
839
5.3 %
RANDOM
Rwork
0.23047
-
-
-
obs
0.2318
14928
95.82 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK