温度: 298 K / 手法: batch mode / 詳細: 12% v/v PEG 3350, 100 mM HEPES pH 7.0
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データ収集
回折
平均測定温度: 294.15 K / Serial crystal experiment: N
放射光源
由来: 自由電子レーザー / サイト: SwissFEL ARAMIS / ビームライン: ESA / 波長: 1.03 Å
検出器
タイプ: PSI JUNGFRAU 8M / 検出器: PIXEL / 日付: 2023年9月4日
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.03 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.31→35.05 Å / Num. obs: 172313 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 187.6 % / CC1/2: 0.914 / Net I/σ(I): 4.13
反射 シェル
解像度: 1.31→1.34 Å / 冗長度: 118.3 % / Mean I/σ(I) obs: 1.27 / Num. unique obs: 8552 / CC1/2: 0.486 / % possible all: 100
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0419
精密化
CrystFEL
データスケーリング
CrystFEL
データ削減
Coot
モデル構築
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.33→35.05 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.976 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.974 / SU B: 0.939 / SU ML: 0.037 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.046 / ESU R Free: 0.046 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16937
7961
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.15325
-
-
-
obs
0.15403
152910
99.98 %
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溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK