プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9999 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.4→78.574 Å / Num. obs: 114046 / % possible obs: 99.98 % / 冗長度: 12.24 % / CC1/2: 0.9979 / Rpim(I) all: 0.057 / Net I/σ(I): 12.108
反射 シェル
解像度: 1.4→1.428 Å / 冗長度: 12.56 % / Mean I/σ(I) obs: 1.318 / Num. unique obs: 5633 / CC1/2: 0.442 / Rpim(I) all: 1.267 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
autoPROC
1.1.7
データ削減
XDS
VERSIONJan31, 2020
データ削減
autoPROC
Version1.1.7
データスケーリング
Aimless
0.7.4
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.4→78.57 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.983 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.972 / SU B: 1.594 / SU ML: 0.026 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.036 / ESU R Free: 0.037 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1444
5488
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.11673
-
-
-
obs
0.11809
108460
99.89 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK