THIS ENTRY 9CBE REFLECTS AN ALTERNATIVE MODELING OF THE ORIGINAL DATA IN 2MSI, DETERMINED BY C.I. ...THIS ENTRY 9CBE REFLECTS AN ALTERNATIVE MODELING OF THE ORIGINAL DATA IN 2MSI, DETERMINED BY C.I.DELUCA,P.L.DAVIES,Q.YE,Z.JIA
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→8 Å / Num. obs: 4933 / % possible obs: 99.1 % / Observed criterion σ(I): 1 / 冗長度: 3.8 % / Rsym value: 0.077 / Net I/σ(I): 7.8
反射 シェル
解像度: 1.9→1.97 Å / Rsym value: 0.306 / % possible all: 98.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 1.9→8 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.949 / SU B: 2.751 / SU ML: 0.082 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.135 / ESU R Free: 0.125 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.18908
262
5.3 %
RANDOM
Rwork
0.15001
-
-
-
obs
0.15215
4637
98.95 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK