プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.46→51.26 Å / Num. obs: 312566 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 5.8 % / CC1/2: 0.99 / Rmerge(I) obs: 0.1 / Net I/σ(I): 5.7
反射 シェル
解像度: 1.46→1.48 Å / Num. unique obs: 10323 / CC1/2: 0.524 / % possible all: 99.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
xia2
データスケーリング
xia2
データ削減
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.46→51.26 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.957 / SU B: 4.651 / SU ML: 0.067 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.08 / ESU R Free: 0.069 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.224
15899
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.204
-
-
-
obs
0.205
296665
99.96 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK