プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97718 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.3→48.135 Å / Num. obs: 321574 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 1.9 % / CC1/2: 0.99 / Net I/av σ(I): 11.3 / Net I/σ(I): 1.5
反射 シェル
解像度: 1.3→1.32 Å / 冗長度: 2 % / Mean I/σ(I) obs: 1.2 / Num. unique obs: 31082 / CC1/2: 0.54 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0419
精密化
XDS
1.08
データ削減
pointless
1.12.12
データスケーリング
MOLREP
11.9.02
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.3→48.13 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.98 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.973 / SU B: 1.618 / SU ML: 0.029 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.041 / ESU R Free: 0.041 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16433
16178
5 %
RANDOM
Rwork
0.13552
-
-
-
obs
0.13695
305395
99.99 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK