プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9537 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.89→47.42 Å / Num. obs: 200119 / % possible obs: 98.2 % / 冗長度: 3.6 % / CC1/2: 0.99 / Net I/σ(I): 6.9
反射 シェル
解像度: 1.89→1.93 Å / 冗長度: 3.5 % / Mean I/σ(I) obs: 1.6 / Num. unique obs: 8176 / CC1/2: 0.483 / % possible all: 79.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0425
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.89→47.42 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.962 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.954 / SU B: 3.54 / SU ML: 0.1 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.148 / ESU R Free: 0.127 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20096
10256
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.17712
-
-
-
obs
0.17836
189840
97.12 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK