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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 8zcx | ||||||
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タイトル | Crystal Structure of a novel Aldehyde Dehydrogenase from Klebsiella pneumoniae | ||||||
![]() | Aldehyde dehydrogenase | ||||||
![]() | OXIDOREDUCTASE / catalysis / Aldehyde dehydrogenase | ||||||
機能・相同性 | ![]() | ||||||
生物種 | ![]() | ||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | ||||||
![]() | Zhang, J. / Han, Y. / Liu, W. / Zhang, W. | ||||||
資金援助 | ![]()
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![]() | ![]() タイトル: Crystal Structure of a novel Aldehyde Dehydrogenase from Klebsiella pneumoniae 著者: Zhang, J. / Han, Y. / Liu, W. / Zhang, W. | ||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 350.7 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 283.4 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
文書・要旨 | ![]() | 474.3 KB | 表示 | ![]() |
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文書・詳細版 | ![]() | 510.8 KB | 表示 | |
XML形式データ | ![]() | 73.3 KB | 表示 | |
CIF形式データ | ![]() | 95.9 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
-関連構造データ
類似構造データ | 類似検索 - 機能・相同性 ![]() |
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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単位格子 |
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要素
#1: タンパク質 | 分子量: 52733.508 Da / 分子数: 4 / 由来タイプ: 組換発現 詳細: Sequence reference for Klebsiella pneumoniae (573) is not available in UniProt at the time of biocuration. Current sequence reference is from UniProt ID A0A069Q1D5. 由来: (組換発現) ![]() 遺伝子: yfmT, xylC_1, CAZ10_02010, DT376_04100, IPC1295_07430, NCTC13621_03651, PAERUG_P19_London_7_VIM_2_05_10_05035 発現宿主: ![]() ![]() 参照: UniProt: A0A069Q1D5, aldehyde dehydrogenase (NAD+), benzaldehyde dehydrogenase (NAD+) #2: 水 | ChemComp-HOH / | Has protein modification | N | |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.82 Å3/Da / 溶媒含有率: 56.41 % |
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結晶化 | 温度: 298 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 6 / 詳細: 0.1M MMT, pH6.0, 25% PEG1500, 10% glycerol |
-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K / Serial crystal experiment: N |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: DECTRIS EIGER X 16M / 検出器: PIXEL / 日付: 2024年3月15日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.9791 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 2.44→50 Å / Num. obs: 83594 / % possible obs: 98.7 % / 冗長度: 17.5 % / CC1/2: 0.999 / Net I/σ(I): 12.8 |
反射 シェル | 解像度: 2.44→2.5 Å / 冗長度: 9 % / Mean I/σ(I) obs: 1.5 / Num. unique obs: 5452 / CC1/2: 0.596 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]()
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 61.343 Å2
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精密化ステップ | サイクル: 1 / 解像度: 2.44→50 Å
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拘束条件 |
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