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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 8z4r | ||||||
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タイトル | The crystal structure of a Hydroquinone Dioxygenase PaD with substrate | ||||||
![]() | Hydroquinone Dioxygenase PaD | ||||||
![]() | OXIDOREDUCTASE / Hydroquinone Dioxygenase | ||||||
機能・相同性 | : / ACETATE ION / : / FORMIC ACID / DI(HYDROXYETHYL)ETHER![]() | ||||||
生物種 | ![]() ![]() | ||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | ||||||
![]() | Liu, Z.W. / Huang, J.-W. / Wang, Y.X. / Chen, C.-C. / Guo, R.-T. | ||||||
資金援助 | ![]()
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![]() | ![]() タイトル: Substrate specificity of a branch of aromatic dioxygenases determined by three distinct motifs. 著者: Cui, C. / Yang, L.J. / Liu, Z.W. / Shu, X. / Zhang, W.W. / Gao, Y. / Wang, Y.X. / Wang, T. / Chen, C.C. / Guo, R.T. / Gao, S.S. | ||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 120.5 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 表示 | ![]() | |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
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-関連構造データ
関連構造データ | ![]() 8z4qC ![]() 8z4sC C: 同じ文献を引用 ( |
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類似構造データ | 類似検索 - 機能・相同性 ![]() |
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 |
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単位格子 |
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要素
-タンパク質 , 1種, 1分子 A
#1: タンパク質 | 分子量: 54196.941 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 組換発現 / 由来: (組換発現) ![]() ![]() ![]() ![]() |
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-非ポリマー , 6種, 436分子 








#2: 化合物 | ChemComp-A1D7Y / 分子量: 154.163 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 合成 / 式: C8H10O3 / タイプ: SUBJECT OF INVESTIGATION | ||||||
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#3: 化合物 | ChemComp-FE / | ||||||
#4: 化合物 | #5: 化合物 | #6: 化合物 | ChemComp-FMT / #7: 水 | ChemComp-HOH / | |
-詳細
研究の焦点であるリガンドがあるか | Y |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 3.58 Å3/Da / 溶媒含有率: 65.61 % |
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結晶化 | 温度: 298 K / 手法: 蒸気拡散法 詳細: 0.1 M HEPES 7.0; 24% PEG Smear Medium; 7% Tacsimate 7.0 |
-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K / Serial crystal experiment: N |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: DECTRIS EIGER2 X 9M / 検出器: PIXEL / 日付: 2023年6月28日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.9998 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 1.81→25 Å / Num. obs: 69612 / % possible obs: 99.6 % / 冗長度: 5.8 % / CC1/2: 0.999 / Net I/σ(I): 29.4 |
反射 シェル | 解像度: 1.81→1.87 Å / Num. unique obs: 6931 / CC1/2: 0.885 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]()
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 35.014 Å2
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精密化ステップ | サイクル: 1 / 解像度: 1.81→24.53 Å
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拘束条件 |
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