プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9792 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→50 Å / Num. obs: 38601 / % possible obs: 93.8 % / 冗長度: 62.4 % / CC1/2: 1 / Net I/σ(I): 28.63
反射 シェル
解像度 (Å)
Num. unique obs
CC1/2
Diffraction-ID
2-2.12
5227
0.845
1
2.12-2.27
5150
0.954
1
2.27-2.45
5723
0.987
1
2.45-2.68
5291
0.996
1
2.68-2.99
4829
0.998
1
2.99-3.46
4148
0.999
1
3.46-4.23
3511
0.999
1
4.23-5.95
2924
0.999
1
5.95-50
1798
1
1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0425
精密化
XDS
データスケーリング
XDS
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→44.53 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.955 / SU B: 3.337 / SU ML: 0.09 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.147 / ESU R Free: 0.135 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20057
1918
5 %
RANDOM
Rwork
0.16634
-
-
-
obs
0.16801
36683
93.81 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK