プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97915 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.3→48.47 Å / Num. obs: 56544 / % possible obs: 99.18 % / 冗長度: 6.9 % / Rmerge(I) obs: 0.1744 / Rpim(I) all: 0.07174 / Net I/σ(I): 8.79
反射 シェル
解像度: 2.3→2.38 Å / 冗長度: 7.2 % / Rmerge(I) obs: 0.3612 / Mean I/σ(I) obs: 4.42 / Num. unique obs: 5608 / Rpim(I) all: 0.1443 / % possible all: 98.54
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.3→48.47 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.92 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.879 / SU B: 8.302 / SU ML: 0.2 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.488 / ESU R Free: 0.27 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25766
2777
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.20924
-
-
-
obs
0.21161
53779
99.19 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK