プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 3.6→50 Å / Num. obs: 13301 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 55.9 % / CC1/2: 0.689 / R split: 0.4754 / Net I/σ(I): 2.5
反射 シェル
解像度: 3.6→3.63 Å / 冗長度: 39.9 % / Mean I/σ(I) obs: 1.55 / Num. unique obs: 303 / CC1/2: 0.657 / R split: 0.7328 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0405
精密化
XDS
データスケーリング
Coot
0.8.9.2
モデル構築
XDS
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 3.6→39.82 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.886 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.724 / SU B: 62.145 / SU ML: 0.932 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.934 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.31764
668
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21733
-
-
-
obs
0.22246
12547
99.75 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK