プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97931 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.01→35 Å / Num. obs: 18167 / % possible obs: 99.3 % / 冗長度: 7.3 % / CC1/2: 0.997 / Net I/σ(I): 14.1
反射 シェル
解像度: 2.01→2.12 Å / 冗長度: 7.5 % / Num. unique obs: 2580 / CC1/2: 0.929 / % possible all: 98.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0135
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.01→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.935 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.905 / SU B: 5.451 / SU ML: 0.148 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.22 / ESU R Free: 0.187 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25973
869
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.21689
-
-
-
obs
0.21898
17292
99.01 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK