プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9792 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→48.54 Å / Num. obs: 144787 / % possible obs: 97.6 % / 冗長度: 5.4 % / Biso Wilson estimate: 19.6 Å2 / CC1/2: 0.995 / CC star: 0.999 / Rmerge(I) obs: 0.119 / Rpim(I) all: 0.057 / Rrim(I) all: 0.132 / Χ2: 0.996 / Net I/av σ(I): 14.8 / Net I/σ(I): 5.4
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. unique obs
CC1/2
CC star
Rpim(I) all
Rrim(I) all
Χ2
% possible all
1.8-1.83
5.3
1.001
1.24
7089
0.462
0.795
0.478
1.111
0.594
96.5
1.83-1.86
5.5
0.867
7154
0.57
0.852
0.402
0.956
0.625
96.4
1.86-1.9
5.6
0.761
7132
0.652
0.889
0.351
0.838
0.649
96.3
1.9-1.94
5.6
0.658
7176
0.734
0.92
0.303
0.725
0.676
96.9
1.94-1.98
5.6
0.562
7132
0.786
0.938
0.26
0.62
0.708
96.7
1.98-2.03
5.5
0.485
7181
0.84
0.956
0.225
0.535
0.746
96.8
2.03-2.08
5.5
0.413
7194
0.879
0.967
0.193
0.456
0.783
97.1
2.08-2.13
5.4
0.36
7171
0.896
0.972
0.169
0.398
0.799
97.1
2.13-2.2
5.4
0.302
7209
0.926
0.981
0.143
0.334
0.849
97.3
2.2-2.27
5.2
0.255
7237
0.94
0.984
0.124
0.284
0.887
97.5
2.27-2.35
5.2
0.226
7210
0.953
0.988
0.11
0.252
0.91
97.6
2.35-2.44
5.5
0.197
7225
0.966
0.991
0.093
0.218
0.947
97.8
2.44-2.55
5.2
0.164
7281
0.973
0.993
0.08
0.183
0.995
98
2.55-2.69
5.6
0.142
7276
0.984
0.996
0.065
0.156
1.073
98
2.69-2.86
5.7
0.118
7286
0.989
0.997
0.054
0.13
1.193
98.3
2.86-3.08
5.6
0.096
7347
0.993
0.998
0.045
0.106
1.284
98.5
3.08-3.39
5.5
0.074
7285
0.995
0.999
0.035
0.082
1.419
98.6
3.39-3.88
5.1
0.057
7368
0.996
0.999
0.028
0.063
1.587
98.7
3.88-4.88
4.7
0.046
7361
0.997
0.999
0.024
0.052
1.675
98.5
4.88-48.54
5
0.043
7473
0.998
0.999
0.022
0.049
1.68
98.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0419
精密化
HKL-3000
データスケーリング
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.8→48.54 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.949 / SU B: 6.074 / SU ML: 0.091 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.12 / ESU R Free: 0.117 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2033
7260
5 %
RANDOM
Rwork
0.16288
-
-
-
obs
0.16493
137493
97.48 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK