プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97918 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.52→103.62 Å / Num. obs: 20161 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 25.9 % / CC1/2: 0.99 / Rpim(I) all: 0.03 / Net I/σ(I): 19.2
反射 シェル
解像度: 2.52→2.62 Å / Mean I/σ(I) obs: 1.1 / Num. unique obs: 2220 / CC1/2: 0.69 / Rpim(I) all: 0.51 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
PDB_EXTRACT
データ抽出
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.52→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.95 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.916 / SU B: 32.877 / SU ML: 0.327 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.727 / ESU R Free: 0.342 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.28482
1006
5 %
RANDOM
Rwork
0.21447
-
-
-
obs
0.21802
19074
99.9 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK