プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9792 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→45.24 Å / Num. obs: 14868 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 20.2 % / CC1/2: 0.998 / CC star: 1 / Rmerge(I) obs: 0.124 / Rpim(I) all: 0.027 / Rrim(I) all: 0.127 / Χ2: 1.174 / Net I/av σ(I): 25.8 / Net I/σ(I): 5.4
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. unique obs
CC1/2
CC star
Rpim(I) all
Rrim(I) all
Χ2
% possible all
2.1-2.14
6.7
1.156
1.08
702
0.504
0.819
0.461
1.257
0.821
96.8
2.14-2.18
7.9
1.1
714
0.462
0.795
0.406
1.182
0.901
99
2.18-2.22
9.4
0.914
721
0.677
0.898
0.311
0.971
0.887
99.9
2.22-2.26
10.9
0.829
734
0.737
0.921
0.261
0.873
0.9
99.7
2.26-2.31
12.8
0.804
722
0.825
0.951
0.233
0.84
0.901
100
2.31-2.37
14.9
0.688
722
0.883
0.969
0.184
0.714
0.982
99.9
2.37-2.42
17.6
0.567
730
0.94
0.984
0.138
0.585
0.975
100
2.42-2.49
22.6
0.517
733
0.97
0.992
0.11
0.529
0.995
100
2.49-2.56
26.3
0.453
730
0.978
0.995
0.09
0.462
1.078
100
2.56-2.65
26.1
0.374
724
0.988
0.997
0.074
0.381
1.113
100
2.65-2.74
25.8
0.325
746
0.986
0.997
0.065
0.331
1.156
100
2.74-2.85
24.8
0.268
731
0.99
0.997
0.055
0.274
1.232
100
2.85-2.98
24.4
0.218
737
0.992
0.998
0.045
0.223
1.245
100
2.98-3.14
26.1
0.178
749
0.996
0.999
0.035
0.182
1.357
99.9
3.14-3.33
25.5
0.141
748
0.997
0.999
0.028
0.143
1.441
100
3.33-3.59
23.6
0.117
749
0.997
0.999
0.024
0.119
1.439
100
3.59-3.95
25.7
0.092
759
0.998
1
0.018
0.094
1.43
100
3.95-4.52
24.8
0.074
770
0.999
1
0.015
0.076
1.336
99.9
4.52-5.7
24.1
0.061
786
0.999
1
0.013
0.063
1.134
99.9
5.7-45.24
21.5
0.049
861
1
1
0.011
0.05
1.003
99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0349
精密化
HKL-3000
データスケーリング
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.1→45.24 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.952 / SU B: 8.269 / SU ML: 0.108 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.155 / ESU R Free: 0.141 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20098
764
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.16688
-
-
-
obs
0.16861
14075
99.74 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK