プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.69→34.16 Å / Num. obs: 21458 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 13 % / CC1/2: 0.99 / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 15.7
反射 シェル
解像度: 1.69→1.73 Å / Mean I/σ(I) obs: 1.65 / Num. unique obs: 19412 / CC1/2: 0.81 / % possible all: 99.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
xia2
データ削減
MoRDa
位相決定
xia2
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.69→23.19 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.972 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.956 / SU B: 3.432 / SU ML: 0.104 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.113 / ESU R Free: 0.117 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23611
1088
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18561
-
-
-
obs
0.18823
20313
99.64 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK