モノクロメーター: Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.976 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.6→73.2 Å / Num. obs: 10394 / % possible obs: 92.7 % / 冗長度: 4.56 % / CC1/2: 0.993 / Rrim(I) all: 0.137 / Net I/σ(I): 8.08
反射 シェル
解像度: 2.6→2.67 Å / Num. unique obs: 773 / CC1/2: 0.799 / Rrim(I) all: 0.571 / % possible all: 97.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0405
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 2.6→73.2 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.933 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.915 / SU B: 11.739 / SU ML: 0.233 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.507 / ESU R Free: 0.316 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26217
573
5.5 %
RANDOM
Rwork
0.19504
-
-
-
obs
0.19867
9820
93.03 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK