プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.95→30 Å / Num. obs: 48492 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 5.5 % / Rmerge(I) obs: 0.063 / Net I/σ(I): 17.1
反射 シェル
解像度: 1.95→2.05 Å / 冗長度: 5.7 % / Rmerge(I) obs: 0.697 / Mean I/σ(I) obs: 2.4 / Num. unique obs: 6637 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.95→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.975 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.955 / SU B: 6.699 / SU ML: 0.082 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.166 / ESU R Free: 0.113 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19686
2423
5 %
RANDOM
Rwork
0.14606
-
-
-
obs
0.14857
46038
99.79 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK