プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9677 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.54→43.02 Å / Num. obs: 10829 / % possible obs: 99.92 % / 冗長度: 9 % / Biso Wilson estimate: 71.76 Å2 / CC1/2: 0.95 / Net I/σ(I): 13.5
反射 シェル
解像度: 2.54→2.631 Å / Num. unique obs: 1047 / CC1/2: 0.78 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0419
精密化
XDS
データスケーリング
XDS
データ削減
MoRDa
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.54→43.02 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.923 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.877 / SU B: 15.157 / SU ML: 0.309 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.423 / ESU R Free: 0.327 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.31851
508
4.7 %
RANDOM
Rwork
0.25047
-
-
-
obs
0.25355
10322
99.93 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK