ソフトウェア | 名称 | バージョン | 分類 |
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PHENIX | (1.20.1_4487: ???)精密化 | XDS | | データスケーリング | XDS | | データ削減 | PHASER | | 位相決定 | |
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精密化 | 構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 4.32→94.07 Å / 交差検証法: FREE R-VALUE / σ(F): 0 / 位相誤差: 38.44 / 立体化学のターゲット値: ML
| Rfactor | 反射数 | %反射 |
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Rfree | 0.407 | 1261 | 5.51 % |
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Rwork | 0.322 | - | - |
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obs | - | 22873 | 95.45 % |
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溶媒の処理 | 減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.1 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL |
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 4.32→94.07 Å
| タンパク質 | 核酸 | リガンド | 溶媒 | 全体 |
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原子数 | 15699 | 0 | 0 | 0 | 15699 |
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拘束条件 | Refine-ID | タイプ | Dev ideal | 数 |
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X-RAY DIFFRACTION | f_bond_d0.004 | 16144 | X-RAY DIFFRACTION | f_angle_d0.973 | 21971 | X-RAY DIFFRACTION | f_dihedral_angle_d7.008 | 2141 | X-RAY DIFFRACTION | f_chiral_restr0.054 | 2432 | X-RAY DIFFRACTION | f_plane_restr0.007 | 2875 | | | | | |
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LS精密化 シェル | 解像度 (Å) | Rfactor Rfree | Num. reflection Rfree | Rfactor Rwork | Num. reflection Rwork | Refine-ID | % reflection obs (%) |
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4.32-4.49 | 0.2992 | 99 | 0.2394 | 1836 | X-RAY DIFFRACTION | 73 | 4.49-4.69 | 0.2826 | 132 | 0.2357 | 2505 | X-RAY DIFFRACTION | 100 | 4.69-4.94 | 0.3139 | 149 | 0.2433 | 2494 | X-RAY DIFFRACTION | 100 | 4.94-5.25 | 0.3299 | 148 | 0.2478 | 2514 | X-RAY DIFFRACTION | 100 | 5.25-5.66 | 0.3267 | 151 | 0.2533 | 2493 | X-RAY DIFFRACTION | 100 | 5.66-6.22 | 0.2667 | 119 | 0.2536 | 2547 | X-RAY DIFFRACTION | 100 | 6.22-7.12 | 0.3722 | 144 | 0.3112 | 2516 | X-RAY DIFFRACTION | 100 | 7.13-8.98 | 0.4623 | 186 | 0.4043 | 2472 | X-RAY DIFFRACTION | 100 | 8-9.4 | 0.5681 | 133 | 0.4273 | 2235 | X-RAY DIFFRACTION | 87 |
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精密化 TLS | 手法: refined / Origin x: -0.2489 Å / Origin y: 2.8463 Å / Origin z: 7.8079 Å
| 11 | 12 | 13 | 21 | 22 | 23 | 31 | 32 | 33 |
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T | -0.2719 Å2 | 0.0895 Å2 | 0.1563 Å2 | - | -0.0178 Å2 | -0.0678 Å2 | - | - | -0.1099 Å2 |
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L | 0.3638 °2 | 0.0035 °2 | -0.2091 °2 | - | 0.3124 °2 | -0.063 °2 | - | - | 0.1031 °2 |
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S | -0.0288 Å ° | 0.5817 Å ° | -0.0793 Å ° | -0.4282 Å ° | 0.1705 Å ° | 0.0877 Å ° | 0.0403 Å ° | -0.2714 Å ° | 0.319 Å ° |
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精密化 TLSグループ | Selection details: all |
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