モノクロメーター: Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9184 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.5→50 Å / Num. obs: 208445 / % possible obs: 99.6 % / 冗長度: 7.33 % / CC1/2: 0.999 / Rmerge(I) obs: 0.072 / Net I/σ(I): 17.88
反射 シェル
解像度: 1.5→1.59 Å / 冗長度: 7.14 % / Rmerge(I) obs: 0.933 / Mean I/σ(I) obs: 2.05 / Num. unique obs: 33258 / CC1/2: 0.731 / % possible all: 98.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0415
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
PHASER
位相決定
PHENIX
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.5→49.02 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.984 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.973 / SU B: 2.299 / SU ML: 0.036 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.047 / ESU R Free: 0.048 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.15603
1043
0.5 %
RANDOM
Rwork
0.11927
-
-
-
obs
0.11945
207402
99.55 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK