プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9686 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.9→105.11 Å / Num. obs: 11410 / % possible obs: 98.1 % / 冗長度: 16.1 % / CC1/2: 0.998 / Net I/σ(I): 10.1
反射 シェル
解像度: 2.9→3.1 Å / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / Num. unique obs: 1602 / CC1/2: 0.653
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
DIALS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.9→105.11 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.932 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.927 / SU B: 16.033 / SU ML: 0.275 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.4 / ESU R Free: 0.287 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25003
547
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.21983
-
-
-
obs
0.22132
10831
98.11 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK