プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.96 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.79→40.19 Å / Num. obs: 11611 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 20 % / CC1/2: 1 / Rmerge(I) obs: 0.104 / Net I/σ(I): 33.6
反射 シェル
解像度: 1.79→1.83 Å / 冗長度: 15 % / Rmerge(I) obs: 1.06 / Mean I/σ(I) obs: 4.6 / Num. unique obs: 576 / CC1/2: 0.912 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
autoPROC
データ削減
autoPROC
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.797→40.128 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.939 / SU B: 3.769 / SU ML: 0.112 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.156 / ESU R Free: 0.147 / 詳細: Hydrogens have been added in their riding positions
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.2325
580
5.089 %
Rwork
0.1805
10818
-
all
0.183
-
-
obs
-
11398
97.938 %
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT