プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.05→78.75 Å / Num. obs: 45827 / % possible obs: 99 % / 冗長度: 2.2 % / CC1/2: 0.994 / Net I/σ(I): 9.3
反射 シェル
解像度: 2.05→2.258 Å / Num. unique obs: 485405 / CC1/2: 0.996 / % possible all: 48
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
autoPROC
5.8.0352
dataprocessing
xia2.multiplex
v1.0
データ削減
Aimless
v1.0
データスケーリング
PHASER
v1.0
位相決定
REFMAC
V1.0
精密化
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.05→78.75 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.954 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.923 / SU B: 5.606 / SU ML: 0.148 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.291 / ESU R Free: 0.238 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.266
2397
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.18892
-
-
-
obs
0.216
43429
68.15 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK