プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97918 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.57→77.52 Å / Num. obs: 32743 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 18.5 % / CC1/2: 1 / Rmerge(I) obs: 0.091 / Net I/σ(I): 20.3
反射 シェル
解像度: 2.57→2.71 Å / 冗長度: 16.9 % / Rmerge(I) obs: 1.217 / Mean I/σ(I) obs: 2.5 / Num. unique obs: 4760 / CC1/2: 0.843 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0405
精密化
xia2
データ削減
pointless
データスケーリング
ARP/wARP
ARP/wARP8.0
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.8→77.52 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.958 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.921 / SU B: 12.216 / SU ML: 0.235 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.612 / ESU R Free: 0.316 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24016
1240
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.17775
-
-
-
obs
0.18093
24255
99.98 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK