モード: BRIGHT FIELD / 倍率(公称値): 120000 X / 最大 デフォーカス(公称値): 2500 nm / 最小 デフォーカス(公称値): 1500 nm / Cs: 2.7 mm / C2レンズ絞り径: 100 µm / アライメント法: COMA FREE
試料ホルダ
凍結剤: NITROGEN / 試料ホルダーモデル: JEOL
撮影
電子線照射量: 53.9 e/Å2 / 検出モード: COUNTING フィルム・検出器のモデル: DIRECT ELECTRON DE-64 (8k x 8k) 撮影したグリッド数: 1 / 実像数: 3579
画像スキャン
動画フレーム数/画像: 50
-
解析
ソフトウェア
名称: PHENIX / バージョン: 1.19.2_4158: / 分類: 精密化
EMソフトウェア
ID
名称
バージョン
カテゴリ
1
cryoSPARC
4.2
粒子像選択
2
SerialEM
画像取得
4
CTFFIND
4
CTF補正
CTF補正
タイプ: NONE
粒子像の選択
選択した粒子像数: 3300635
対称性
点対称性: C2 (2回回転対称)
3次元再構成
解像度: 2.84 Å / 解像度の算出法: FSC 0.143 CUT-OFF / 粒子像の数: 393352 / アルゴリズム: FOURIER SPACE / クラス平均像の数: 1 / 対称性のタイプ: POINT
精密化
解像度: 2.84→129.92 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.842 / SU B: 7.146 / SU ML: 0.131 / ESU R: 0.361 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD WITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Rwork
0.3682
-
-
obs
0.3682
185005
100 %
溶媒の処理
溶媒モデル: PARAMETERS FOR MASK CACLULATION
原子変位パラメータ
Biso mean: 74.882 Å2
精密化ステップ
サイクル: 1 / 合計: 14940
拘束条件
Refine-ID
タイプ
Dev ideal
数
ELECTRONMICROSCOPY
f_bond_d
0.005
14380
ELECTRONMICROSCOPY
f_angle_d
0.493
19522
ELECTRONMICROSCOPY
f_dihedral_angle_d
4.518
1970
ELECTRONMICROSCOPY
f_chiral_restr
0.042
2148
ELECTRONMICROSCOPY
f_plane_restr
0.005
2558
Refine LS restraints NCS
Ens-ID: 1 / 数: 62868 / Refine-ID: ELECTRON MICROSCOPY / タイプ: interatomic distance / Rms dev position: 0.08 Å / Weight position: 0.05