プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9795 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→54.15 Å / Num. obs: 33495 / % possible obs: 95.4 % / 冗長度: 1.6 % / CC1/2: 0.981 / Rpim(I) all: 0.034 / Net I/σ(I): 6.1
反射 シェル
解像度: 1.9→1.94 Å / Mean I/σ(I) obs: 1.3 / Num. unique obs: 2152 / CC1/2: 0.446 / % possible all: 93.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0403
精密化
DIALS
データ削減
Aimless
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.9→52.33 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.953 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.925 / SU B: 4.796 / SU ML: 0.133 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.18 / ESU R Free: 0.152 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2131
1637
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.17201
-
-
-
obs
0.17405
31857
95.36 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK