プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.32→50 Å / Num. obs: 275956 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 5.9 % / CC1/2: 0.998 / Rrim(I) all: 0.109 / Net I/σ(I): 11.17
反射 シェル
解像度: 2.32→2.46 Å / 冗長度: 5.9 % / Mean I/σ(I) obs: 1.22 / Num. unique obs: 44464 / CC1/2: 0.547 / Rrim(I) all: 1.39 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
PHENIX
1.19.2
精密化
DIALS
データ削減
XDS
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.32→47.81 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.939 / SU B: 9.677 / SU ML: 0.217 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.376 / ESU R Free: 0.239 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23518
2334
5 %
RANDOM
Rwork
0.18819
-
-
-
obs
0.1905
44269
99.91 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK