プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9785 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 3.52→49.43 Å / Num. obs: 19789 / % possible obs: 99.15 % / 冗長度: 2 % / CC1/2: 0.999 / CC star: 1 / Rpim(I) all: 0.042 / Rrim(I) all: 0.059 / Net I/σ(I): 10.39
反射 シェル
解像度: 3.52→3.65 Å / 冗長度: 2 % / Mean I/σ(I) obs: 1.59 / Num. unique obs: 1830 / CC1/2: 0.528 / CC star: 0.831 / Rpim(I) all: 0.52 / Rrim(I) all: 0.74 / % possible all: 93.27
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 3.52→49.43 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.932 / SU B: 36.647 / SU ML: 0.526 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.639 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26943
1036
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.22017
-
-
-
obs
0.22275
18753
99.16 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK