プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.49→47.09 Å / Num. obs: 22157 / % possible obs: 95.8 % / 冗長度: 6.8 % / CC1/2: 0.999 / Net I/σ(I): 27.52
反射 シェル
解像度: 1.49→1.543 Å / CC1/2: 0.999
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
XDS
データ削減
PHENIX
v1.0
精密化
HKL-2000
データスケーリング
SHELXT
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.49→47.09 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.97 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / SU B: 3.979 / SU ML: 0.065 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.092 / ESU R Free: 0.083 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2189
1107
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.16214
-
-
-
obs
0.16447
22157
95.96 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK