プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.33→30 Å / Num. obs: 34208 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 40.7 % / CC1/2: 0.996 / CC star: 0.999 / Χ2: 0.059 / Net I/σ(I): 22.2
反射 シェル
解像度: 2.33→2.41 Å / 冗長度: 38.7 % / Mean I/σ(I) obs: 1.87 / Num. unique obs: 6105 / CC1/2: 0.799 / CC star: 0.942 / Χ2: 0.44 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
PDB_EXTRACT
3.27
データ抽出
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
HKL-2000
データ削減
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.33→29.08 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.946 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.902 / SU B: 7.939 / SU ML: 0.186 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.281 / ESU R Free: 0.238 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26533
1694
5 %
RANDOM
Rwork
0.20522
-
-
-
obs
0.20815
32223
99.43 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK