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基本情報
登録情報
データベース: PDB / ID: 8idu
タイトル
Crystal structure of substrate bound-form dehydroquinate dehydratase from Corynebacterium glutamicum
要素
3-dehydroquinate dehydratase
キーワード
LYASE / Amino-acid biosynthesis
機能・相同性
機能・相同性情報
quinate catabolic process / 3-dehydroquinate dehydratase / 3-dehydroquinate dehydratase activity / chorismate biosynthetic process / aromatic amino acid family biosynthetic process / amino acid biosynthetic process 類似検索 - 分子機能
Dehydroquinase, class II, conserved site / Dehydroquinase class II signature. / Dehydroquinase, class II / Dehydroquinase, class II superfamily / Dehydroquinase class II 類似検索 - ドメイン・相同性
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97934 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→50 Å / Num. obs: 83591 / % possible obs: 98.5 % / 冗長度: 4.7 % / Rmerge(I) obs: 0.13 / Χ2: 0.062 / Net I/σ(I): 10.3
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique obs
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
2-2.03
4.2
0.324
8386
1.906
1
97.2
2.03-2.07
4.3
0.303
8452
2.063
1
97.5
2.07-2.11
4.3
0.273
8426
2.075
1
97.6
2.11-2.15
4.4
0.246
8428
2.122
1
97.6
2.15-2.2
4.4
0.223
8441
2.294
1
97.8
2.2-2.25
4.4
0.212
8462
2.303
1
97.9
2.25-2.31
4.4
0.198
8506
2.247
1
97.7
2.31-2.37
4.5
0.194
8471
2.364
1
98.4
2.37-2.44
4.5
0.183
8484
2.427
1
98.5
2.44-2.52
4.6
0.166
8507
2.626
1
98.3
2.52-2.61
4.7
0.155
8579
2.756
1
98.8
2.61-2.71
4.8
0.146
8536
2.941
1
98.8
2.71-2.84
4.9
0.132
8569
3.221
1
99.1
2.84-2.99
5
0.127
8545
4.02
1
99
2.99-3.17
5
0.116
8617
4.809
1
99.3
3.17-3.42
5.1
0.102
8620
5.43
1
99.4
3.42-3.76
5.1
0.095
8585
6.781
1
99.4
3.76-4.31
5.1
0.087
8539
7.287
1
98.9
4.31-5.43
5
0.081
8601
6.513
1
99.6
5.43-50
4.8
0.085
8581
6.922
1
98.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
v5.8.0267
精密化
HKL-2000
データスケーリング
HKL-2000
データ削減
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→30.92 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.946 / SU B: 2.25 / SU ML: 0.063 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.109 / ESU R Free: 0.104 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1692
4516
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.14195
-
-
-
obs
0.14336
83591
98.47 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK