プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.953724 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.54→46.89 Å / Num. obs: 41501 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 26.6 % / CC1/2: 0.999 / Net I/σ(I): 12
反射 シェル
解像度: 1.54→1.57 Å / Num. unique obs: 2033 / CC1/2: 0.5 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0403
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.54→46.89 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.972 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.969 / SU B: 1.193 / SU ML: 0.041 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.056 / ESU R Free: 0.057 / 詳細: Hydrogens have been added in their riding positions
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19
2110
5.092 %
RANDOM
Rwork
0.1702
39325
-
-
all
0.171
-
-
-
obs
-
41435
99.993 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT