プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97918 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.89→50 Å / Num. obs: 10542 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 9.9 % / CC1/2: 1 / Rmerge(I) obs: 0.049 / Net I/σ(I): 21.53
反射 シェル
解像度: 2.89→3.07 Å / Rmerge(I) obs: 2.692 / Mean I/σ(I) obs: 0.77 / Num. unique obs: 1651 / CC1/2: 0.694
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0403
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.89→45.56 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.947 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.898 / SU B: 28.648 / SU ML: 0.5 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.457 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.29609
527
5 %
RANDOM
Rwork
0.24942
-
-
-
obs
0.25172
10013
99.85 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.9 Å / 減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK